Hunan Jingtan Automation Equipment Co., LTD.

محصولات

خونه /

محصولات

کوره ذوبلیماسیون خلاء 380 ولت با ساختار افقی برای تولید اکسید سیلیکون

جزئیات محصول

محل منبع: چین

نام تجاری: Jingtan

گواهی: CE

شرایط پرداخت و حمل و نقل

مقدار حداقل تعداد سفارش: 1 مجموعه

قیمت: USD10,000-80,000/SET

جزئیات بسته بندی: جعبه چوبی

زمان تحویل: ۶۰ روز

شرایط پرداخت: l/c/t/t

قابلیت ارائه: 10 عدد در ماه

بهترین قیمت رو بدست بیار

حالا تماس بگیرید

مشخصات

توضیحات

مشخصات

برجسته کردن: 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                  اجاق افقی اجاق تخلیه خلاء,کوره سوبلیماسیون برای اکسید سیلیکون, Sublimation Furnace For Silicon Oxide
                                                  

سیستم خنک کننده:	اب	فرکانس:	50 هرتز
ولتاژ:	380 ولت	زمان عملیات حرارتی:	8 تا 10 ساعت
رنگ:	مشتری مورد نیاز است	اندازه بشکه داخلی:	1500x1500 میلی متر
حجم موثر:	3.5-10CBM	تضمین:	1 سال
اندازه:	سفارشی

سیستم خنک کننده:	اب
فرکانس:	50 هرتز
ولتاژ:	380 ولت
زمان عملیات حرارتی:	8 تا 10 ساعت
رنگ:	مشتری مورد نیاز است
اندازه بشکه داخلی:	1500x1500 میلی متر
حجم موثر:	3.5-10CBM
تضمین:	1 سال
اندازه:	سفارشی

توضیحات

کوره ذوبلیماسیون خلاء 380 ولت با ساختار افقی برای تولید اکسید سیلیکون

1. مناسب برای تولید انبوه مواد رسوب بخار مانند اکسید سیلیکون

2کنترل دقيق درجه حرارت، کوره خلاء با درجه حرارت بالا

3. با ذوب شدن خلاء بالا، واکنش، تخلیه چربی، تخلیه آب، مواد رسوب بخار خرد کردن خودکار، جمع آوری کوره و سایر قابلیت های خاص فرآیند.

محصولات Fشکل ها:

1مقدار زيادي مواد، کارايي توليد بالا.

2.تمام فرآیند کاملا بسته و کار خودکار برای جلوگیری از گرد و غبار پرواز، و محیط محل تولید تمیز و مرتب است.

3درجه حرارت در حدود 1500 درجه کنترل می شود و سرعت گرم کردن سریع است. می تواند عملکرد پایدار را تحت خلاء حفظ کند.

پارامتر فنی اصلی:

مدل	JT-SHL-118	JT-SHL-226	JT-SHL-385	JT-SHL-804
ساختار کوره	افقی
اندازه منطقه ی دمای ثابت	Φ500mm*600mm	Φ600mm*800mm	Φ700mm*1000mm	Φ800mm*1600mm
بدن کوره	ساختار خنک کننده آب دو لایه ای داخلی و خارجی و قسمت تماس آب خنک کننده از فولاد ضد زنگ 304به طور موثر جلوگیری از بدن کوره برای مدت طولانی به استفاده از پدیده نشت گاز
سيستم سوبليميشن	منطقه گرمایش از کویل حشره ای، کوراندوم سنگین، گرافیت سخت و گرافیت ایزواستاتیک تشکیل شده است. منطقه جمع آوری از فولاد ضد زنگ 310S و لایه عایق است.
سیستم کنترل دما	با استفاده از PLC صفحه نمایش لمسی حالت کنترل متمرکز، کنترل خودکار، با پورت شبکه، می تواند کنترل از راه دور را درک کند.
سیستم گرمایش	این شامل پمپ خلاء چند مرحله ای، شیر خلاء، کنترل کننده فشار و خط لوله است.
سیستم خلاء	این شامل پمپ خلاء چند مرحله ای، شیر خلاء، کنترل کننده فشار و خط لوله است.
سیستم خنک کننده	مجهز به سیستم خنک کننده بسته، گردش داخلی با آب دیونیزه شده، باعث نمی شود لوله تجهیزات مقیاس، از دست دادن آب گردش داخلی کوچک است،گردش خارجی با آب شیر، پر کردن مجدد آب اتوماتیک ، انتشار گرما از طرف فن؛ اثر انتشار گرما خوب ، حفاظت از محیط زیست یکپارچه ، اثر کوچک و غیره.
تجهیزات شامل سیستم سبلیماسیون، سیستم جمع آوری، سیستم گرمایش، سیستم کنترل دمای، سیستم خلاء، سیستم مکانیکی و سیستم خنک کننده است.

کوره ذوبلیماسیون خلاء 380 ولت با ساختار افقی برای تولید اکسید سیلیکون 0

Tags:

لطفا درخواست خود را به ما بفرستید و ما در اسرع وقت به شما پاسخ خواهیم داد.

بفرست

کوره گرافیتیزه کننده

کوره زینترینگ

کوره ی مداوم

کوره کربنیزاسیون

کوره رسوب دهی

تجهیزات تصفیه گرما برقی

تجهیزات کمکی و لوازم جانبی کوره

کوره ذوبلیماسیون خلاء 380 ولت با ساختار افقی برای تولید اکسید سیلیکون

اجاق افقی اجاق تخلیه خلاء,کوره سوبلیماسیون برای اکسید سیلیکون

Sublimation Furnace For Silicon Oxide

کوره ی خلاء,کوره رسوب بخار,کوره CVD,

اجاق افقی اجاق تخلیه خلاء,کوره سوبلیماسیون برای اکسید سیلیکون,

CVD Furnace

کوره رسوب بخار شیمیایی برای ترکیبات آلی فلزی مواد مرکب SiC

کوره رسوب بخار خلاء با دمای بالا 1250 1650 1800 2200 درجه

KGPS/IGBT فرکانس متوسط خلاء مقاومت کوره رسوب یا گرمایش تحرک

تجهیزات رسوب کوره CVD برای آماده سازی مواد نیمه هادی فیلم نازک

حالت قفل درب کوره رسوب خلاء برای گرافیت و دستگاه های نیمه هادی

کوره رسوب بخار خلاء صنعتی 900~1200 درجه درجه حرارت بالا

کوره ذوبلیماسیون با درجه حرارت بالا 1500 درجه برای رسوب بخار کربن سیلیکون

کوره رسوب بخار 1500 درجه Si2o، کوره CVD نوع افقی OEM

2200C کوره خلاء تخلیه گرما درمان کوره CVD برای پوشش کربن پیرولیتیک

کوره واریز چند مرحله ای کنترل فشار هوشمند برای درمان CVD CVI

OEM فولاد ضد زنگ بخار تخلیه کوره صنعتی CVD کوره با کنترل PLC

کوره گرافیتیزه کننده

کوره زینترینگ

کوره ی مداوم

کوره کربنیزاسیون

کوره رسوب دهی

تجهیزات تصفیه گرما برقی